16:00 〜 18:00 [19p-PB5-3] 硫化法によるCu2SnS3薄膜へのポストアニール処理効果 〇中嶋 崇喜1、萩原 祐希1、山口 利幸1、笹野 順司2、伊﨑 昌伸2 (1.和歌山高専、2.豊橋技科大)
16:00 〜 18:00 [19p-PB5-4] Cu2ZnSnSe4化合物プリカーサの硫化法により作製したCu2ZnSn(S,Se)4薄膜へのKF添加効果 〇中嶋 崇喜1、上西 一熙1、直井 弘之1、山口 利幸1、荒木 秀明2、片桐 裕則2、笹野 順司3、伊﨑 昌伸3 (1.和歌山高専、2.長岡高専、3.豊橋技科大)