16:00 〜 16:15 [19p-145-9] 極薄フォトレジストパターンをスペーサーとして利用した有機半導体膜の無溶媒転写形成 〇(DC)大山 惇郎1、小熊 尚実2、平田 直毅2、市川 結1 (1.信大繊、2.大日精化)