11:30 〜 11:45 [21a-133-8] シリコン酸化膜を用いたシリコン量子ドット積層構造における構造・電気的特性評価 〇(M1)赤石 龍士郎1、北沢 宏平1、後藤 和泰1、加藤 慎也2、宇佐美 徳隆1、黒川 康良1 (1.名大院工、2.名工大院工)