18:00 〜 18:15 △ [19p-311-11] ナノダイヤモンドを用いた多層グラフェンのSiO2/Si基板上への直接析出成長――加熱温度依存―― 〇山本 大地1、山田 純平1、上田 悠貴1、藤原 亨介1、丸山 隆浩1、成塚 重弥1 (1.名城大理工)