18:45 〜 19:00 [19p-133-19] HfO2:Y/Si(100)ヘテロエピタキシャル薄膜の構造とその電気特性 〇鎌田 大輝1、高田 賢志1、桐谷 乃輔1、吉村 武1、芦田 淳1、藤村 紀文1 (1.阪府大工院)