[18a-222-1~11] 12.6 ナノバイオテクノロジー

[18a-222-4] Al₂O₃極薄膜によるポア壁面の表面電荷状態制御

〇林田 朋樹¹、横田 一道¹、筒井 真楠¹、谷口 正輝¹ (1.阪大産研)

キーワード：マイクロポア、原子層堆積法

固体マイクロポアデバイスの表面に、原子層堆積法(ALD)を用いてAl₂O₃膜を1 nm~20 nmの範囲で成膜した。このデバイスを用いて、粒子がポアを通過する際のイオン電流変化を計測し、各Al₂O₃膜厚におけるシグナルの大きさ及び検出頻度の変化について検証した。Al₂O₃の膜厚に応じたイオン電流応答の変化が見られた。成膜したAl₂O₃の厚さによってSi₃N₄/Al₂O₃表面のゼータ電位が1 mV以下の精度で変化し通過時の粒子ダイナミクスに影響を与えたと考えられる。