2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18a-223-1~9] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月18日(火) 09:15 〜 11:45 223 (223)

清水 亮太(東工大)

10:00 〜 10:15

[18a-223-4] スピン流熱電変換素子の磁性層としてのLa2NiMnO6

〇(M1)寺林 真輝1、関 真一郎2、中村 優男2、川﨑 雅司2,3、石橋 幸治2、齋藤 智彦1、松野 丈夫2,4,5 (1.東理大理、2.理研CEMS、3.東大工、4.阪大理、5.JSTさきがけ)

キーワード:スピンポンピング、強磁性共鳴、エピタキシャル界面

エピタキシャル酸化物界面におけるスピン流の測定を行い、界面がスピン流注入効率に与える影響の解明を目指す。理想的な界面を得る組み合わせとして強磁性絶縁体La2NiMnO6(LNMO)と非磁性金属SrIrO3を選択し、理想的界面を得るため、表面形状と磁化の両方の観点からLNMOの製膜条件を最適化した。さらにスピンポンピング測定の前段階としてLNMO薄膜の強磁性共鳴を行った。当日はスピンポンピングを含めたLNMO薄膜の測定結果を議論する。