2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[18p-136-1~15] 3.7 レーザープロセシング

2018年9月18日(火) 13:45 〜 18:00 136 (3Fロビー)

佐藤 正健(産総研)、辻 剛志(島根大)

17:30 〜 17:45

[18p-136-14] 液体窒素中でのパルスレーザー照射によるSiC表面窒化特性

嶋林 正晴1、金子 拓真1、佐々木 浩一1 (1.北大工)

キーワード:SiC、レーザーアブレーション