[18p-223-1~17] 6.3 酸化物エレクトロニクス

△ [18p-223-5] n型シリコン基板上の酸化タングステン極薄膜の5d軌道への電子蓄積

〇(PC)岸本 史直¹、椿 俊太郎²、和田 雄二² (1.東大院工、2.東工大物質理工)

キーワード：n-nヘテロ接合、ソフトケミカル、酸化タングステン

半導体表面の電子状態の制御技術は、高度な触媒・センサー開発を可能にする。一般に、n型半導体同士のヘテロ接合構造では、界面での静的な電子移動によって一方の半導体が電子過剰となった熱平衡状態を作りだすことができる。本研究では、原子層厚のWO₃極薄膜を過剰にPドープしたn型Si(n⁺⁺Si)基板と接合させることで、n⁺⁺SiからWO₃に電子移動が起こり、表面のW原子の5d軌道に電子が蓄積されることを報告する。