2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[18p-234B-1~19] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2018年9月18日(火) 13:15 〜 18:30 234B (234-2)

影山 健生(QDレーザ)、中尾 亮(NTT)、神谷 格(豊田工大)

17:15 〜 17:30

[18p-234B-15] 2温度成長法でMBE成長した(001)GaAsBi/GaAs多重量子井戸の偏光依存PL

神原 誉1 (1.愛媛大院理工)

キーワード:偏光、表面偏析、GaAsBi/GaAs

2温度成長法による表面偏析の非常に小さなGaAsBi/GaAs量子井戸において同様の偏光PL測定を行い、表面偏析の大きい試料と表面偏析がほとんどない試料の偏光PLスペクトルの比較を行った。