[18p-431B-1~12] 【CS.7】 6.5 表面物理・真空, 7.6 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェアセッション

[18p-431B-2] [講演奨励賞受賞記念講演] 熱伝導率制御に向けた非整合チムニーラダー構造FeGe_γ/Siのエピタキシャル成長

〇寺田 吏¹、石部 貴史¹、渡辺 健太郎²、中村 芳明^1,3 (1.阪大院基礎工、2.東北大、3.CREST-JST)

キーワード：熱電材料、エピタキシャル成長、ナノ構造

LSI低温廃熱の再利用に向けたSi基板上熱電材料において、低い熱伝導率を有するナノ構造・低次元材料での研究が盛んに行われており、ナノスケール熱伝導の理解と制御が重要な課題となっている。我々は、高い熱電特性、単位格子変調可能な非整合チムニーラダー構造を有するFeGeγにナノ構造を導入し、原子からナノスケールでの熱伝導制御を目的としている。本発表では、Si基板上FeGe_γのエピタキシャル成長技術を開発したので報告する。