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[18p-PB3-69] 二軸電界印加法による還元型酸化グラフェン(rGO)スピンコート膜の特性
キーワード:酸化グラフェン、電界、rGO
今回、GO分散液の溶媒を水からNMP(N-メチル-2-ピロリドン)水溶液に変更し、GO分散液のSi基板表面への親水性を改善させることで、スピンコート法により均一で安定した膜厚(25nm)の試料を準備することができた。本発表では、スピンコート法で準備した試料について、乾燥時に印加する二軸電界がrGO膜質に及ぼす影響を報告する。