2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[19a-224A-1~8] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2018年9月19日(水) 09:30 〜 11:30 224A (224-1)

池之上 卓己(京大)

09:45 〜 10:00

[19a-224A-2] ハライド気相成長法による酸化ガリウム成長層の深いピットの発生原因

小西 敬太1、後藤 健2,3,1、村上 尚1,4、倉又 朗人3、山腰 茂伸2,3、熊谷 義直1,4 (1.東京農工大院工、2.タムラ製作所、3.ノベルクリスタルテクノロジー、4.東京農工大GIR)

キーワード:結晶成長、ハライド気相成長、酸化ガリウム