2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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[19a-PB1-1~11] 9.5 新機能材料・新物性

2018年9月19日(水) 09:30 〜 11:30 PB (白鳥ホール)

09:30 〜 11:30

[19a-PB1-9] Pt/Ni二層触媒を用いた低濃度水素によるYの三水素化

小林 拓也1、三上 亮太1、菅沼 奈央1、秋里 宗次郎1、酒井 政道1、花尻 達郎2、中島 義賢2、徳田 正秀2、藤井 泰彦2、中村 修3 (1.埼大院理工、2.東洋大、3.岡山理大)

キーワード:半導体

YHxは水素濃度xの増加とともに結晶構造が、hcp(x<0.21:α相)、fcc(x=2:β相)、hcp(x=3:γ相)と変態し、x=2.8で金属から半導体へ変化することが知られている。水素貯蔵効果があるとされている希土類金属の中で、Pt触媒を用いることで高純度のγ相が得られると報告されている 。また、Pd触媒とNi触媒の二種類を用いることで低温下においてγ相が得られるとの報告がある。本研究ではPd触媒と同じく触媒効果を持つPt触媒とNi触媒の二種類を用いたYの水素化とX線回折結果のより定量的な分析を行った。