[19p-133-1~19] 6.1 強誘電体薄膜

△ [19p-133-6] 電圧印加における非鉛(K,Na)NbO₃薄膜の結晶構造変化その場観察

〇譚 ゴオン¹、西岡 慎太郎¹、小金澤 智之²、梅垣 俊仁¹、神野 伊作¹ (1.神大工、2.高輝度光科学研究センター)

キーワード：XRDその場観察、非鉛圧電薄膜

非鉛 (K,Na)NbO₃ (KNN)薄膜は、現在主流であるPZT薄膜に匹敵する高い圧電特性を有しており、PZTの代替材料として注目を集めている。KNN薄膜の圧電特性を向上させるためには、電圧印加下での結晶構造変化からKNN薄膜の圧電性の特徴を明らかにする必要がある。本研究は、Si基板上に堆積された多結晶KNN薄膜に対して、DC電圧印加下で放射光施設（SPring-8）のシンクロトロン放射光を用いて面外および面内のX線回折測定を行い、PZT薄膜の結果と比較した。