2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[19p-231C-1~19] 12.1 作製・構造制御

2018年9月19日(水) 13:15 〜 18:15 231C (3Fラウンジ1)

葛原 大軌(岩手大)、廣芝 伸哉(早大)

14:15 〜 14:30

[19p-231C-5] ウェットプロセスによる金属フタロシアニン薄膜の作製と評価

土井 美穂1、平井 裕太郎2、武田 将貴1、藪 浩3、増原 陽人1,4 (1.山形大院理工、2.東北大院工、3.東北大 WPI-AIMR、4.山形大有機エレ研)

キーワード:金属フタロシアニン、ウェットプロセス、UV照射

耐光性に優れたフタロシアニン(Pc)は、有機薄太陽電池の材料として注目されてきたが、その溶解性の低さからウェットプロセスによる成膜が困難であった。そこで本研究では、Pc前駆体溶液をスピンコートにて成膜後、UV照射する方法と、Pc前駆体溶液へ基板を浸漬させてUV照射をする方法の二つの手法を用いてPc薄膜の作製を試みた。これらの手法により、有機溶媒に難溶なPc薄膜の作製が可能となった。