2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[19p-234B-1~19] 6.4 薄膜新材料

2018年9月19日(水) 13:15 〜 18:30 234B (234-2)

土屋 哲男(産総研)、一杉 太郎(東工大)、村岡 祐治(岡山大)

16:30 〜 16:45

[19p-234B-13] 高品質スピネルフェライト薄膜の作製と磁気特性

池田 竜大1、丸山 伸伍1、松本 祐司1 (1.東北大院工)

キーワード:スピネルフェライト、フラックス、単結晶

NiFe2O4(NFO)をはじめとするスピネルフェライトは,薄膜の作製条件によって結晶性や金属カチオンの四面体・八面体サイト分布が大きく変化し,磁気特性が変化することが知られている.特に,膜内の欠陥・転位の有無は磁気特性に大きな影響を与える.そこで,高品質な単結晶性の薄膜作製を可能にするフラックスエピタキシー(FME)法と呼ばれる液相フラックスを介したNFO薄膜の気相蒸着合成を試み,フラックスが薄膜の構造や結晶性,磁気特性に与える影響を調査した.