2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[19p-431B-1~18] 3.5 レーザー装置・材料

2018年9月19日(水) 13:45 〜 18:45 431B (431-2)

時田 茂樹(阪大)、戸倉川 正樹(電通大)、古瀬 裕章(北見工大)

17:45 〜 18:00

[19p-431B-15] 透明Yb:FAP異方性セラミックスにおける粒界異相に関する議論

佐藤 庸一1、平等 拓範1 (1.分子研)

キーワード:異方性、セラミックレーザー、配向制御

Yb:FAPセラミックスにおける粒界異相を分析し、異相低減について検討を行った。Yb:FAPセラミックスの異相は主としてCa3(PO4) 2から構成されており、Yb添加による電荷補償のためのCa欠陥が異相生成の主要因であると考えられる。Yb添加濃度を下げることで異相生成が大幅に低減され、またそれに伴って粒成長も促進された。