[19p-PA5-1~14] 16.3 シリコン系太陽電池

[19p-PA5-9] テクスチャ化単結晶Si基板上へのスピンコート法による酸化亜鉛反射防止膜の形成に関する研究

近藤 颯平¹、安彦 伽恵¹、宮口 立地¹、氷室 貴大¹、〇齋藤 洋司¹、河原 正美² (1.成蹊大院理工、2.高純度化学)

キーワード：シリコン太陽電池、反射防止膜、テクスチャ

スピンコート法によるZnO反射防止膜の成膜を試みている。昨年度までは2－エチルヘキサン酸亜鉛を主成分とした有機酸塩溶液を使用していたが、焼成時に膜の一部が蒸発する問題があった。今回、緻密化のため低分子のカルボン酸塩である酢酸亜鉛からなるゾルゲル溶液を使用して成膜し、光学特性の評価及び電気的特性の評価を行った。