[19p-PB8-1~23] 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」（ポスター）

△ [19p-PB8-23] 一軸加圧下熱処理による層状Li-Ni系エピタキシャル薄膜の構造制御

〇伊藤 翔陽¹、堀松 芳樹¹、土嶺 信男²、金子 智^3,1、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技総研)

キーワード：層状Li-Ni系エピタキシャル薄膜、一軸加圧下熱処理、構造制御

LiNiO₂は，Li二次電池の正極材料や幾何学的スピンフラストレーションを内包した興味深い系として磁性の観点からも注目されている。LiNiO₂のエピタキシャル薄膜の合成とその作製プロセス，構造制御に関する知見は正極材料の劣化機構および電気・磁気特性を解明するうえで有益な情報となる。本研究では，LiNiO₂エピタキシャル薄膜の作製と結晶相制御を目的とし，(Li,Ni)Oエピタキシャル薄膜の一軸加圧下熱処理が結晶相に及ぼす影響を検討した。