2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[20a-331-1~13] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:30 331 (国際会議室)

熊崎 祐介(富士通研)

09:00 〜 09:15

[20a-331-1] 位相シフト電子線ホログラフィーを用いたGaNナノワイヤー内部のドーパント分布の可視化

仲野 靖孝1、松本 実子1、穴田 智史1、山本 和生1、Si Young Bae2、田中 敦之2、本田 善央2、石川 由加里1、天野 浩2、平山 司1 (1.JFCC、2.名大)

キーワード:電子線ホログラフィー、窒化物半導体