[21a-233-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[21a-233-7] 水晶振動子によるシリコンミニマルＣＶＤ製膜過程測定

室井 光子¹、〇羽深 等¹、三ケ原 孝則^2,3、池田 伸一^2,3、石田 夕起^2,3、原 史朗^2,3 (1.横国大院工、2.ミニマルファブ、3.産総研)

キーワード：ミニマルファブ、製膜過程、観察方法

ミニマル・ファブに用いられるシリコンエピタキシャル製膜プロセスを把握するために排出ガス系に水晶振動子(QCM)を設置した。それにより得られる詳細な内容を報告する。