2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[21a-PA3-1~20] 13.8 光物性・発光デバイス

2018年9月21日(金) 09:30 〜 11:30 PA (イベントホール)

09:30 〜 11:30

[21a-PA3-4] α-Zn2SiO4薄膜の作製および評価

松崎 健太郎1、斎藤 光1、波多 聰1、渡邊 厚介1、稲田 幹1 (1.九大総理工)

キーワード:ケイ酸二亜鉛、カソードルミネッセンス、電子顕微鏡

Si3N4基板上にZnOを成膜し、アニーリング処理により得たZn2SiO4膜は平坦性が優れた発光膜となることが報告されている。また、Zn2SiO4は相によって発光波長が異なることもこれまでに報告されている。そこで本研究ではZn2SiO4膜の発光特性を制御することを目的とし、形成される膜の相および組織の熱処理条件依存性を調査したところSiO2/ZnO/Si3N4多層薄膜を900℃以上で熱処理することにより、α相が主成分の単色発光薄膜が容易に得られることを見出した。