14:45 〜 15:00 △ [19p-D103-6] 厚膜4H-SiCエピタキシャル成長における反り低減 〇升本 恵子1、瀬川 悟志1,2、大野 俊之3、齊藤 新吾1、児島 一聡1、加藤 智久1、奥村 元1 (1.産総研、2.旭ダイヤモンド、3.日立)