09:30 〜 11:30 [19a-P5-1] Cl基およびOH基含有シリカガラス接合界面でのOH基拡散 〇(B)青木 裕亮1、荒川 優1、葛生 伸1、堀越 秀春2、堀井 直宏3 (1.福井大工、2.東ソー・エスジーエム、3.福井高専)