一般セッション(ポスター講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
2018年3月18日(日) 13:30 〜 15:30 P1 (ベルサール高田馬場)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 15:30
〇古瀬 裕章1、中沢 俊亮1、森田 孝治2、吉田 英弘2、鈴木 達2、金 炳男2、目 義雄2、平賀 啓二郎1,2 (1.北見工大、2.物材機構)
スケジュール
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)
13:30 〜 15:30
〇鈴木 将之1、黒田 寛人1 (1.愛知医大)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇根津 優樹1、古瀬 裕章1、藤岡 加奈2、宮永 憲明2、川村 みどり1、吉田 英弘3、森田 孝治3、鈴木 達3、金 炳男3、目 義雄3、平賀 啓二郎3 (1.北見大工、2.阪大レーザー研、3.物材機構)
スケジュール
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)
13:30 〜 15:30
〇コスロービアン ハイク1、谷口 誠治1 (1.レーザー総研)
スケジュール
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)
13:30 〜 15:30
〇(B)Sung WeiHeng1、Jun-Peng Qiao2、Peng Lee1、Chung-lung Wu1、Meng-Yu Meng-YuWu1、Hong HongLiu3、Chao-Kuei Lee1 (1.Department of Photonics, National Sun Yat-sen University、2.School of Information Science and Engineering, Shandong University、3.State Key Laboratory of Crystal Materials, Institute of Crystal Materials, Shandong University)
スケジュール
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