2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[17p-C103-1~13] 6.4 薄膜新材料

2018年3月17日(土) 13:45 〜 18:00 C103 (52-103)

中村 吉伸(東大)、鈴木 基史(京大)

15:45 〜 16:00

[17p-C103-6] TiO2/SiO2/Al構造を用いた光吸収率の増強による光触媒の高効率化

角木 亮介1、名村 今日子1、陳 佳瑋2、闕 郁倫2、鈴木 基史1 (1.京大院・工、2.國立清華大・材料)

キーワード:光触媒、干渉、斜め蒸着