[18a-P2-1~9] 3.2 材料・機器光学

[18a-P2-5] 液晶回折素子の放射線照射による光学特性の耐性評価

〇荻原 昭文¹、戸田 真輝士¹、渡邊 実² (1.神戸高専、2.静岡大)

キーワード：液晶、ホログラフィックメモリ、放射線

FPGAに対しVLSI資源のより有効な利用が期待される光を用いて回路をより高速に実装可能な光再構成型ゲートアレイ(ORGA)用のホログラムメモリは、外乱等による影響を受けにくく記録された情報の保持特性が高い特徴を有する。このため、高信頼性が必要とされる宇宙空間での人工衛星や廃炉処理現場のロボット等への搭載が想定される。このような環境下では、高エネルギーな放射線の影響を受けるため、放射線への耐性が重要となる。しかしながら、液晶複合体材料を用いた回折素子等に関する放射線照射の影響は、まだ不明な点も多い。今回、液晶回折素子に対してコバルト60を用いたガンマ線を継続的に照射し、照射量に対する素子の光学特性の変化について調査を行ったので報告する。