2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-C102-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年3月18日(日) 13:45 〜 18:00 C102 (52-102)

内藤 泰久(産総研)、新宮原 正三(関西大)

14:15 〜 14:30

[18p-C102-3] スパッタ堆積Si酸化膜の抵抗スイッチングエネルギーの評価

大村 泰久1、赤野 拓哉1,2、佐藤 伸吾1 (1.関西大、2.奈良先端大学院大)

キーワード:スイッチングエネルギー、シリコン酸化膜、低エネルギースイッチング

Au/Silicon oxide/b-FeSi2/n-Si 構造のコンデンサ構造で抵抗変化のスイッチングエネルギーを調べた。別の実験で明らかになった抵抗遷移時間に基づき、抵抗遷移エネルギーを計算した結果、抵抗遷移時間は長いものの、エネルギーの値は従来の報告値よりもかなり小さく、シリコン酸化膜を用いたメモリの低エネルギー性能を示すことができた。