2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[18p-E202-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年3月18日(日) 13:15 〜 19:30 E202 (57-202)

荒木 努(立命館大)、片山 竜二(阪大)、藤倉 序章(サイオクス)

17:15 〜 17:30

[18p-E202-15] 反応性スパッタ法によるGaNの低温成長

白井 雅紀1、山本 拓司1、高澤 悟1、石橋 暁1 (1.株式会社アルバック)

キーワード:GaN、スパッタリング、低温

反応性スパッタ法によるGaNの低温成長について、下地となる基板とGaNの成長状態に関する考察を行う。