[18p-E202-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

△ [18p-E202-9] 高温アニールで生じるスパッタAlNの反り制御

〇林 侑介¹、谷川 健太朗¹、正直 花奈子²、三宅 秀人^1,2 (1.三重大院地域イノベ、2.三重大院工)

キーワード：AlN、スパッタ、アニール

スパッタ成膜したAlNを1700℃の高温アニール処理することにより、結晶性が大幅に改善されることが報告されている。アニールの過程で固相成長が促進され、貫通転位が消失する様子がTEM測定から明らかにされている。一方、クラックの発生やウェハの反りも見られており、これらの抑制は深紫外LEDへの応用で重要となる。両面研磨サファイア基板の表面・裏面にスパッタすることでアニール後の反り制御に成功したので報告する。