2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

22 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」 » 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

[18p-P15-1~11] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

2018年3月18日(日) 16:00 〜 18:00 P15 (ベルサール高田馬場)

16:00 〜 18:00

[18p-P15-4] ナノワイヤ型シリコン熱電デバイスにおけるAlN熱伝導層の膜質が発電性能に及ぼす影響

目崎 航平1、大和 亮1、詹 天卓1、橋本 修一郎1、大場 俊輔1、姫田 悠矢1、熊田 剛大1、徐 茂1、武澤 宏樹1、津田 和瑛1、松川 貴2、渡邉 孝信1 (1.早大理工、2.産総研)

キーワード:窒化アルミニウム、エナジーハーベスティング

熱電材料の性能を最大限に引き出すには、熱電変換部の温度差を大きくすることが重要であり、そのためには周辺の寄生熱抵抗の削減が必須となる。窒化アルミニウム(AlN)は、熱伝導率が高くSiと熱膨張係数が近いことから、Si-NWを用いたμTEGの熱伝導層材料の有力候補である。今回我々は、成膜条件が異なるAlNのN欠損密度を電子線マイクロアナライザを用いて調査し、μTEGの発電特性との関係を調査した。