2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス

[19a-B201-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス

2018年3月19日(月) 09:30 〜 11:45 B201 (53-201)

石川 靖彦(豊橋技科大)、阿部 紘士(横国大)

09:45 〜 10:00

[19a-B201-2] レーザー溶融結晶化による石英基板上引張歪み単結晶GeSnアレイの作製

岡 博史1、黒木 伸一郎2、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.阪大院工、2.広大RNBS)

キーワード:ゲルマニウムスズ、レーザーアニール、石英基板