2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[19p-A404-1~19] 3.7 レーザープロセシング

2018年3月19日(月) 13:15 〜 18:45 A404 (54-404)

吉田 岳人(阿南高専)、寺川 光洋(慶大)

14:15 〜 14:30

[19p-A404-4] フェムト秒レーザーアブレーションを利用した PMMA基板の親水化と抗体タンパク質の局所固定化

〇(PC)合谷 賢治1、渕脇 雄介2、田中 正人2、大家 利彦2 (1.阪大 レーザー研、2.産総研 健康工学)

キーワード:フェムト秒レーザーアブレーション、抗体固定化、レーザー誘起親水化構造

PMMA(ポリメタクリル酸メチル)基板上の局所領域に対して、分子認識材料(抗体タンパク質)を固定化するために、フェムト秒レーザーアブレーションによる表面改質手法を開発した。本手法は、センサー部となる担体の形状に依存せず、アブレーション領域に対して選択的に固定化することが可能である。