2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[19p-P11-1~31] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2018年3月19日(月) 16:00 〜 18:00 P11 (ベルサール高田馬場)

16:00 〜 18:00

[19p-P11-4] ロール・ツー・ロール方式によるGZO透明導電膜のプラズマ支援堆積

村中 司1、土屋 雄平1、榊原 守章1、小野島 紀夫1、鍋谷 暢一1、松本 俊1、平木 哲2、河野 裕3、木島 一広3、吉村 千秋3、萩原 茂3 (1.山梨大、2.中家製作所、3.山梨県産技センター)

キーワード:透明導電膜、Ga添加ZnO、ロール・ツー・ロール

本研究グループは、これまでに、低温・低損傷プロセスであるプラズマ支援分子線堆積法を用いて各種フレキシブル基板上へのGa添加ZnO(GZO)透明導電膜の作製/評価を行ってきた。今回の報告では、フレキシブル応用が可能なロール・ツー・ロール(Roll-to-roll, RTR)方式によって形成したGZO透明導電膜の成膜条件と特性評価について報告する。