2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19p-P5-1~39] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年3月19日(月) 13:30 〜 15:30 P5 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[19p-P5-29] 電着液のpHによるCu2Oの抵抗率の変化

揚野 哲也1、税所 健1、前田 大輝1、野見山 輝明1、堀江 雄二1、小ヶ口 晃2 (1.鹿児島大学 院 理工、2.タカタ株 技術本部)

キーワード:酸化銅、Cu2O、光蓄電池

光発電層と蓄電層を積層した光で蓄電できる光蓄電池の発電層として電着によるCu2Oのp-nホモ接合とすることを狙っている.本報告では,電着液のpHを水酸化ナトリウムを非常にゆっくり滴下して調整した.その結果一定でないpHの変化を詳細に調べて制御することで低抵抗なCu2Oが得られることが示唆された.講演では電着液のpHによる膜の抵抗率の変化から接合面の最適化について議論する.