[20a-B401-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-B401-3] 電子線リソグラフィにおけるパターン形成の確率論的シミュレーション

〇香山 真範¹、白井 正充¹、川田 博昭¹、平井 義彦¹、安田 雅昭¹ (1.大阪府大院工)

キーワード：電子線リソグラフィ、シミュレーション、レジストパターン

確率論的モデルに基づくシミュレーション手法を提案し，電子線リソグラフィにおけるパターン形成過程を再現した．ランダムに配置した粒子間に架橋結合を形成することでネガ型レジストの電子線露光をモデル化した．現像は仮定した分子量以下のポリマーをレジスト中より除去することでモデル化した．加速電圧や露光量に応じたパターン形状が再現された．また，パターン表面には分子構造を反映したラフネスが見られた．