[20a-P7-1~37] 12.1 作製・構造制御

[20a-P7-25] ミストデポジション法における霧液滴の蒸発速度制御と有機ELのホール輸送層の成膜

杉浦 史紘¹、人羅 俊実²、〇香取 重尊¹ (1.津山工業高等専門学校、2.株式会社　フロスフィア)

キーワード：ミストデポジション、ホール輸送層、非真空プロセス

ミストデポジション法による有機ELのホール輸送層の成膜について検討を行った。ミストデポジション法では溶液の揮発速度が膜質に影響を与えることが分かっている。そこで、膜質を改善することを目的として、沸点の異なる2種類の溶媒を用いた成膜を検討した。特に混合溶媒の比率と成膜温度を変化させることで、表面粗さが改善され、電子物性の制御が可能であることが示唆された。