[20p-B301-1~13] 7.1 X線技術

[20p-B301-9] EUVリソグラフィにおけるレジスト露光過程の統計的性質のモデリング

〇佐々木 明¹、石野 雅彦¹、錦野 将元¹、前川 康成¹ (1.量研)

キーワード：EUV リソグラフィ、フォトレジスト、パーコレーション

EUVリソグラフィにおけるレジストの解像度、感度に対する光子の統計的なゆらぎ（photon shot noise）のシミュレーション解析について述べる。EUV照射によって生じた低エネルギー２次電子により感光した、レジスト分子の相互のつながりによってパターンが形成されるとするパーコレーションモデルで、照射強度の閾値やLWR(Line Width Roughness)の評価を試みる。