17:30 〜 17:45 △ [20p-N304-10] SiN Atomic Layer Etching表面状態の変動解析 〇平田 瑛子1、深沢 正永1、釘宮 克尚1、長岡 弘二郎1、唐橋 一浩2、浜口 智志2 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ、2.阪大院工)