16:00 〜 16:15 [18p-E304-10] WSin挿入層を用いたCo/n-Si接合の低いショットキー障壁と高い熱的安定性 〇岡田 直也1、内田 紀行1、小川 真一1、金山 敏彦1 (1.産総研)