09:00 〜 09:15
〇後藤 真宏1、佐々木 道子1 (1.物材機構)
一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
09:00 〜 09:15
〇後藤 真宏1、佐々木 道子1 (1.物材機構)
09:15 〜 09:30
〇丹羽 英二1、林 晋也2、須貝 一郎2、野口 幸紀2、飯島 高志3、棚池 修3、蛯名 武雄3 (1.電磁研、2.イチネンケミカルズ、3.産総研)
09:30 〜 09:45
〇阿部 宏之1、馬 騰2、但木 大介3、平野 愛弓2,3、木村 康男4、庭野 道夫5 (1.宮城県産技セ、2.東北大材料科学高等研、3.東北大通研、4.東京工科大工、5.東北福祉大)
09:45 〜 10:00
〇中島 智彦1、土屋 哲男1 (1.産総研)
10:00 〜 10:15
〇大口 裕之1,2、桑野 博喜1 (1.東北大NICHe、2.東北大AIMR)
10:15 〜 10:30
〇Xin DAI1、Yuya Komatsu1、Ryota Shimizu1,2、Taro Hitosugi1 (1.Tokyo Tech.、2.JST PRESTO)
10:45 〜 11:00
〇(M1C)Jyotish Patidar1、Susumu Horita1 (1.JAIST)
11:00 〜 11:15
〇西川 雅美1、相場 遥佳1、袖山 和斗1、河原 正美2、中島 智彦3、土屋 哲男3、石橋 隆幸1 (1.長岡技大工、2.高純度化学、3.産総研)
11:15 〜 11:30
〇(M2)三浦 径1、藤原 宏平1、塚﨑 敦1 (1.東北大金研)
11:30 〜 11:45
〇福田 貴優1、横谷 尚睦2、村岡 祐治2 (1.岡山大院自然、2.岡山大基礎研)
11:45 〜 12:00
〇臼木 美弥1、堀出 朋哉1、堀部 陽一1、松本 要1 (1.九工大)
12:00 〜 12:15
横倉 真美1、大塚 尚輝1、中村 翔太郎1、西 純平1、〇氷室 貴大1、齋藤 洋司1 (1.成蹊大院理工)
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