[18p-E304-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[18p-E304-8] 液体シリコンによるナノ空間へのシリコン埋め込みに関する研究

〇増田 貴史¹、臼井 友輝²、岸岡 高広² (1.北陸先端大、2.日産化学株式会社)

キーワード：液体シリコン、埋め込み

最先端半導体プロセスの１つにナノサイズの開口部を持つ空間、例えばトレンチ･細孔･空隙を半導体シリコン(Si)で埋め込む技術が希求されている。本研究は「液体Si」と呼ぶ独自の液体材料を用いて20nm以下の空間へ半導体Si埋め込む。ナノ空間に接触した液体Siは毛管力により自発的に内部に浸透し、「液体Si→固体Si」変換を通して内部にSiを製膜する。