2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[18p-PA5-1~22] 6.4 薄膜新材料

2019年9月18日(水) 16:00 〜 18:00 PA5 (第一体育館)

16:00 〜 18:00

[18p-PA5-5] W・Nb・Moドープ酸化バナジウム膜の形成と評価

西 純平1、中村 翔太郎1、横倉 真美1、氷室 貴大1、〇齋藤 洋司1 (1.成蹊大院理工)

キーワード:赤外線センサ、ゾル・ゲル法、酸化バナジウム膜

ボロメータ用センサ材料としてW・Nb・Moドープ酸化バナジウム膜の形成をゾル・ゲル法で行い、主に電気的特性の評価を行った。