2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

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[19p-B01-1~6] パワーエレクトロニクスと薄膜・表面技術〜省エネルギー社会に向けて〜

2019年9月19日(木) 13:30 〜 16:45 B01 (オープンホール)

山田 貴壽(産総研)、田畑 仁(東大)

13:30 〜 14:00

[19p-B01-1] 次世代パワー半導体デバイス開発における材料学的課題

小出 康夫1 (1.物材機構)

キーワード:パワー半導体、SiC、GaN

次世代パワー半導体材料として、市場拡大が期待される炭化シリコン(SiC)および窒化ガリウム(GaN)、更には次々世代材料として酸化ガリウム(Ga2O3)およびダイヤモンドが注目されている。本講演ではそれぞれの半導体材料、ウェハ、および電子デバイスと材料学的課題について言及する。