2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.1 X線技術

[19p-E318-1~10] 7.1 X線技術

2019年9月19日(木) 13:30 〜 16:30 E318 (E318)

豊田 光紀(東京工芸大)、津留 俊英(山形大)

16:00 〜 16:15

[19p-E318-9] EUV光源コレクターミラーの保護膜における劣化メカニズムの解明

本田 能之1、柳田 達哉1、白石 裕1、森田 昌幸1、安藤 正彦1、戸室 啓明1、松田 晃史2、吉本 護2 (1.ギガフォトン、2.東工大)

キーワード:EUV光源

LPP方式のEUV光源実用化の課題の一つとして、Mo/Si多層膜反射集光鏡表面における保護膜の劣化がある。本報告では、保護膜劣化メカニズムの解明を目的に、コレクターミラーの表面状態を模擬したサンプルを製作し、保護膜とSnデブリの反応性評価を行った。プラズマより飛散し、Si層界面付近にまで侵入したSnデブリが集まり結晶成長する際に、保護膜に粗密が生じることで、保護膜が劣化するものと考えられる。