2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[20a-E306-1~12] 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

2019年9月20日(金) 09:00 〜 12:15 E306 (E306)

鈴木 陽香(名大)

09:15 〜 09:30

[20a-E306-2] パルス放電照射によるテレフタル酸分解 -導電率と極性の影響-

高橋 一弘1、佐藤 孝紀1 (1.室蘭工大)

キーワード:パルス放電、テレフタル酸、OHラジカル

本報告では,テレフタル酸水溶液へのパルス放電照射において,水溶液の導電率と印加電圧の極性がテレフタル酸の分解に与える影響を調査し,プラズマ中で生成されるOHラジカルと正極性パルス放電照射時に生じる電荷交換衝突を介して生成されるOHラジカルによるテレフタル酸の分解への寄与について調査した結果を示す。