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[20p-B12-6] MBE法を用いたInP(001)微傾斜基板上のInGaAs太陽電池の作製
キーワード:III-V族化合物半導体、太陽電池、分子線エピタキシー
我々は,III-V族多接合太陽電池の高効率化に取り組んでいる.固体ソースMBE法を用いたInGaAsサブセルの特性向上を目指して微傾斜基板を検討した.(111)A方向に2°微傾斜させたInP(001)基板を用いることでInGaAs太陽電池の表面ラフネスが最も小さくなった.さらに,すべての太陽電池パラメータが向上し,変換効率は9.7%から12.3%に向上した.