蛍光X線ホログラフィを用いたBi(Fe,Mn)O<sub>3</sub>薄膜の構造ゆらぎ解析

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム（technical) » 強誘電体材料の将来デバイスへの応用

2019年9月20日(金) 13:45 〜 18:00 C309 (C309)

小林正治(東大)、齋藤真澄(東芝メモリ)

16:15 〜 16:30

〇渕脇八雲¹、中嶋誠二¹、藤澤浩訓¹、黒川裕太¹、八方直久²、木村耕治³、山本裕太³、松本亮平³、林好一³ (1.兵庫県立大、2.広島市立大、3.名古屋工業大)

キーワード：蛍光X線ホログラフィ