[20p-C310-1~16] 6.4 薄膜新材料

△ [20p-C310-9] rfスパッタリングによるMgF₂薄膜の作製と誘電関数解析

〇小倉 航平¹、柏木 誠¹、賈 軍軍²、待永 広宣³、重里 有三¹ (1.青学大理工、2.早大国際理工C、3.日東電工)

キーワード：MgF₂薄膜、rfスパッタリング、光学薄膜

フッ化マグネシウム（MgF₂）薄膜は低屈折率であり、紫外から赤外領域において高い透過性を示すなどの特性を有する。MgF₂薄膜はスパッタ法によって作製した場合、フッ素欠損が生じることが問題視されてきた。本研究では、成膜時のフッ素分圧に注目してストイキオメトリックなMgF₂薄膜の作製を試みた。これらの膜はXRD, EPMA, XPS, 分光エリプソメトリ等によって構造、組成、結合状態、誘電関数の解析を行った。